1.13.2 Método Directo de grabado de matrices

Este método se llama directo porque la exposición a la luz y el revelado se hace directamente a una malla que ya se le ha aplicado una capa de fotoemulsión.

El método directo es el método más utilizado por su facilidad de aplicación, y la resistencia de la matriz en altos tirajes. Quizás el único inconveniente del método directo es que la definición está mayormente influenciada por la malla, pero esto mejora con adecuadas Técnicas de emulsionado y con emulsiones de alta definición.


En el método directo una emulsión sensible, líquida y muy densa, se aplica a la malla, se seca y luego se expone a la luz en contacto con una película o transparencia, los pasos siguientes son revelar con agua y secar la matriz (Imágenes 235_01 a 235_08) .

Aplicación de la fotoemulsión
Imagen 235_01
Secado de la fotoemulsión
Imagen 235_02
Se coloca la película en el vidrio
Imagen 235_03

Se coloca la malla emulsionada sobre la película
Imagen 235_04
Se expone la malla emulsionada a la luz
Imagen 235_05

Las áreas más oscuras han recibido luz
Imagen 235_06

Las áreas que reciben luz no se disuelven con agua
Imagen 235_07

Después del revelado se seca la emulsión
Imagen 235_08

Resistencia de las fotoemulsiones a las tintas
Las fotoemulsiones utilizadas en el método directo no presentan las mismas características de resistencia a tintas a base de solventes y a tintas a base de agua, por lo que se debe seleccionar el tipo de fotoemulsión de acuerdo a su resistencia.
Ver Resistencia de las Fotoemulsiones

Tipos de Fotoemulsiones según el sensibilizador
Las fotoemulsiones del método directo también poseen diferentes cualidades con respecto al tipo de sensibilizador empleado lo que influye principalmente en la definición de la matriz.

Según el sensibilizador se agrupan en:

  • Fotoemulsiones al Cromo
  • Fotoemulsiones al Diazo
  • Emulsiones Fotopolímeras
  • Emulsiones Diazo-fotopolímeras